Seminar 15.02.2017 - 16.02.2017 |
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Beschreibung: |
Sie erhalten Informationen aus erster Hand zu: Industriellen Einsatzgebieten zur Schichtherstellung durch Kathodenzerstäubung (Sputtering); der Sputtertechnik für Optische Systeme; der Simulation von Plasmaprozessen; der Schichtabscheidung mit hochionisierten Plasmen; Neuen Trends in der Weiterentwicklung von Sputterprozessen; Technik und industriellen Beispielen moderner Beschichtungsanlagen |
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